一、項目基本情況
原公告的采購項目編號：ZF****-**-****
原公告的采購項目名稱：中國科學技術(shù)大學濕法工藝臺
首次公告日期：****年**月**日
二、更正信息
更正事項：采購文件
更正內(nèi)容：
我公司現(xiàn)對中國科學技術(shù)大學濕法工藝臺招標文件做出如下答疑澄清。此次答疑澄清為招標文件的組成部分，具有同等效力。答疑澄清與招標文件不同之處，按本次答疑澄清執(zhí)行。
項目答疑澄清如下：
1.前道-槽式晶圓清洗：
（1）設備槽體布局：槽體單排擺放，還是雙排擺放（藥液槽在內(nèi)側(cè)，水槽靠人在外側(cè)）？
答：所有工藝臺的槽體（如有）均為雙排擺放，藥液槽在內(nèi)側(cè)，水槽靠人在外側(cè)。
（2）電力：額定電壓**0 V，額定功率≤5 kW，設備額定功率不可能小于5KW，且標注為星號。
答：針對所有工藝臺的功率限定做出調(diào)整，調(diào)整后的參數(shù)詳見更新后的采購需求附件。
（3）尺寸：內(nèi)寬：>**** mm；加甩干機、柜子外寬<**** mm；外深：****-**** mm；（所有工藝臺的外深應統(tǒng)一）內(nèi)深：****-**** mm；外高：能夠運入**** mm高的通道。請給出設備最大限制尺寸：長寬高。
答：寬：加甩干機、柜子外寬<**** mm；深：****-**** mm；高：<**** mm。
（4）藥液配比：請問藥液來源，藥液怎么進入設備工藝槽內(nèi)？（其他設備藥液來源問題一樣）
答：自動供液系統(tǒng)將配好的藥液由管道輸入設備工藝槽內(nèi)。涉及藥液的工藝臺要求一致。
（5）清洗甩干機：配單獨一臺甩干機的意思嗎？單腔還是雙腔？（其他設備甩干機問題一樣）
答：是；適配4英寸、6英寸、8英寸晶圓盒（casette）即可，不指定單腔雙腔。涉及清洗甩干機的工藝臺要求一致。
（6）廢液排放（原液廢料）：除DHF藥液外，其他廢液都排至廠務嗎？
答：是。
（7）廢氣排放：酸排、堿排、熱排到廠務（每種**0 CMH）；所有廠務排放均向下（到地面）：意思是廠務排風接口，在高架板下面嗎？（其他設備問題一樣）
答：是，廠務排風接口在高架地板下面。涉及廢氣排放的工藝臺均為：廠務排風接口在高架地板下面。
（8）配件柜配置：須配置一個尺寸為高2m-2.3m，寬**cm-**cm，深**cm-**cm的配件柜：這是要配一個化學存放柜嗎？（其他設備問題一樣）
答：否，配件柜用來放配件（例如燒杯、清潔用品）。涉及配件柜配置的工藝臺要求一致。
2.前道-半自動光刻工藝臺：1*噴淋勻膠機、1*噴淋顯影機、2*熱板、1*HMDS箱。需要提供這幾個配件品牌、參數(shù)、型號：
答：不限定品牌型號。技術(shù)參數(shù)為：噴淋勻膠機、噴淋顯影機適合8、6、4英寸晶圓；熱板溫度室溫到**0度可調(diào)；HMDS箱適配8、6、4英寸晶圓。
3.后道-自定義有機工藝臺2：設置，超聲水槽：請問產(chǎn)品是不是放在燒杯內(nèi)操作，用于計算槽體尺寸（或者給出超聲水槽大概尺寸？）
答：是，放在燒杯內(nèi)操作。超聲水槽和QDR槽大小相同即可。
4.后道-自定義堿刻蝕工藝臺：廢液收集口：有機堿（TMAH，連到有機排）、無機堿（連到堿排）。一個水浴槽怎么有2個排液接口，是這個槽共用的嗎？（其他設備也有這一樣的疑問）
答：否，水浴槽里不能排堿液。所有工藝臺中無對應槽的倒液口應在槽外單獨配置，倒液口可設置在臺面另一側(cè)。
5.后道-自定義HF刻蝕工藝臺：廢液收集口：濃HF、BOE類（連到含氟桶）、其它類（連到buffer tank加大量水排到含氟廢水）。槽體設置只有一個QDR槽，怎么會有含氟廢液，是臺面上有個倒液口，倒入下方回收桶嗎？
答：是。采購需求中所有的“自定義”工藝臺指的是可在空白臺面上進行和其名稱相關(guān)的自定義實驗（如自定義HF刻蝕工藝臺可進行和HF刻蝕相關(guān)的實驗，產(chǎn)生的含氟廢液可由設置在臺面（槽外）的倒液口倒入下方回收桶）。
6.甩干機是獨立一臺設備，還是與主機臺一體式？甩干機也同樣需要4/6/8共用是嗎？
答：可獨立，需要適配4/6/8寸，單雙腔均可；
7.配件柜配置：是不是就單獨配一個柜子放在機臺旁邊就好？這個柜子是存放片盒使用，是一般開放式柜子還是氮氣柜？
答：是。存放片盒、燒杯、耗材等，一般開放式柜子即可。
8.空白臺面：是做實驗放東西的平臺?需要多大，關(guān)系到設備尺寸問題。目前已知四個槽體前后排列。后面機臺都有此裝置，空能相同是嗎？
答：是。除了槽體、排液口等之外其他部分均留空即可，目的是為了用戶自定義實驗。功能相同。
9.后道-自定義有機工藝臺 2：槽設置：超聲水槽、QDR： 具體槽體數(shù)量，關(guān)系空心臺面，設備尺寸，看起來像是2個有機超聲槽，其中一個需要水浴加熱，2個QDR槽？
答：否。本機臺（3.2.7后道-自定義有機工藝臺 2）只需要一個帶超聲的水槽，一個QDR槽即可。3.2.6后道-自定義有機工藝臺需要2個有機NMP槽（不帶超聲）、兩個QDR槽；兩者不可混同。
**.后道-自定義堿刻蝕工藝臺、后道-自定義堿刻蝕工藝臺 2：槽設置：水浴槽、QDR：具體槽體數(shù)量，關(guān)系空心臺面，設備尺寸，看起來像是2個堿槽，其中一個需要水浴加熱，2個QDR槽；排放分：有機堿，無機堿單獨排放？（與3.2.8設備規(guī)格一致，是否有特殊地方）
答：否，沒有堿槽，只有一個水浴槽和一個QDR槽；有機堿、無機堿須分別預留倒液口，在槽外單獨配置，倒液口可設置在臺面另一側(cè)。
**.后道-自定義酸刻蝕工藝臺、后道-自定義酸刻蝕工藝臺 2：槽設置：超聲水槽、QDR：具體槽體數(shù)量，關(guān)系空心臺面，設備尺寸，看起來像是2個酸槽，一個超聲水槽，一個QDR；排放分：磷酸（在設備內(nèi)配置廢液桶），非磷酸直排。
答：否，沒有酸槽，只含一個帶超聲的水槽和一個QDR槽。磷酸、非磷酸須分別預留倒液口，在槽外單獨配置，倒液口可設置在臺面另一側(cè)。
**.后道-自定義 HF 刻蝕工藝臺：槽設置：QDR：具體槽體數(shù)量，關(guān)系空心臺面，設備尺寸。排放分：HF;BOE類；其他類。
答：只有一個QDR槽。濃HF和BOE類、其他類須分別預留倒液口，在槽外單獨配置，倒液口可設置在臺面另一側(cè)。
**.提供2套可拆卸的自定義工藝臺蓋板，蓋板側(cè)面配有四副手套：是否是需要2個手套箱做一般測試用，是不是要把手套箱放到其他設備內(nèi)，因為設備內(nèi)標注空白臺面和插座看起來是要做實驗用。
答：否。提供2套適配所有自定義工藝臺的手套板，板面配有四副手套，所有自定義工藝臺的前面板可替換成手套箱的前面板（濕法臺直接作為手套箱使用），而不是放兩個手套箱進去。同時替換后也應保證工藝臺的密封性，防止危害物質(zhì)泄露。
**.前道-半自動光刻工藝臺：
（1）涂膠、顯影，需適配8、6、4英寸晶圓或?qū)饪萄谀ぐ妫盒枰獙ρ谀ぐ孀鍪裁矗?
答：對掩膜版進行涂膠顯影。這是生產(chǎn)有圖形的掩膜版的必備過程。
（2）額定功率≤2 kW：這個功率沒法達到1*噴淋勻膠機、1*噴淋顯影機、2*熱板、1*HMDS箱這些組件的功率。
答：針對所有工藝臺的功率限定做出調(diào)整，調(diào)整后的參數(shù)詳見更新后的采購需求附件。
（3）內(nèi)寬：>**** mm：這個是指設備不能小于這個寬度？
答：指的是設備內(nèi)部空間不能小于這個寬度。
（4）1*噴淋勻膠機、1*噴淋顯影機、2*熱板、1*HMDS箱：這里指的是模組嗎，不是單獨的設備吧？
答：模組。
（5）清洗甩干機（Spin rinse dry）配置：涂膠顯影機沒有單獨配清洗甩干機，涂膠顯影單元本身有自動甩干功能。
答：要求單獨配制一個清洗甩干機。
（6）須配置一個尺寸為高2m-2.3m，寬**cm-**cm，深**cm-**cm的配件柜：這個是要配一個單獨的柜子放置配件對嗎？
答：是。
**.其他調(diào)整詳見更新后的采購需求附件。
**.提交投標文件截止時間、開標時間修改為****年9月1日**點**分（北京時間）。
更正日期：****年**月**日
三、其他補充事宜
無
四、凡對本次公告內(nèi)容提出詢問，請按以下方式聯(lián)系。
1.采購人信息
名 稱：中國科學技術(shù)大學
地址：合肥市金寨路**號
聯(lián)系方式：宣老師、沈老師 ****-********
2.采購代理機構(gòu)信息
名 稱：安徽省招標集團股份有限公司
地 址：合肥市紫云路**8號
聯(lián)系方式：應急客服電話：****-********（接聽時間：8:**-**:**,**:**-**:**，節(jié)假日除外。潛在供應商應優(yōu)先撥打項目聯(lián)系人聯(lián)系電話，無人接聽時再撥打該“應急客服電話”）
3.項目聯(lián)系方式
項目聯(lián)系人：劉志凌、張文奇、陳鵬飛（****室）
電 話： ****-********、********、********、**********0
